半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导体设备高档次首测智能化涉重废污水——MVR强迫嵌套循环零排新项目
的项目原型
半导体技术技术舒适首测创业项目流程,规模化150万立方/天,是首份半导体技术技术首测配套方案涉重生产生产废水零排创业项目流程。首测方式的镀镍、镀铜、引线体系结构擦拭会呈现含镍含铜生产生产废水,科技园区标准"无尾水外排",产水全不工业废水处理于产线。
地表水共同点与关键问题
工业废水以含镍为中心(酸度10–100毫克/升),伴轻微铜、锌,pH下降大(2–12),另外 光刻胶留下的极少量有机质物。公测厂场所紧,特殊要求整理建筑设施占地面小;零排后果着浓水不是土石方不少,要本土蒸发掉凝结前馈。
治理 方法线路
整体化走"分质整理 → 预治理除杂 → 检查是否凝固除镍 → 滤过 → UF+两极RO → MVR禁止循坏汽化 → 冷凝器水造纸废水处理":
含镍线先调pH到10–11,加药氢钝化钠转为Ni(OH)₂沉定,后加混炼钠角度收集的残留物镍(混炼镍Ksp比氢钝化镍更小,如何把镍压到0.1毫克/升之下);
滤渣喷水经多材质净化+安检员净化后进UF,再进两级RO,产水随时回产线的洗涤;
RO浓水(含盐+稳定度天价属)进MVR强迫性重复减压蒸馏器,强迫性重复能扛高含盐水垢,减压蒸馏器自身线清洁工作,材质堵;
MVR冷凝剂水回去回收利用地下室集水井,多效蒸发残液委外燃烧或是 危废处理处治,另一工厂无液太外排。
重要性机器设备优缺点说
MVR被迫重复往复相对于常见降膜多效蒸发掉器,重复往复流动速度高、对流传热面不可结镍盐/碳酸盐垢,适于测封这些"需水量不算太大但水质检测杂"的场地;成智能化撬装设计构思占地面比一般多效蒸发掉器塘+多效多效蒸发掉器设计方案小60%综上所述;废气侧服务设施菌物滤池,把调整池和活性污泥间的废气提取后化学降解成CO₂和水,逃避测封厂紧挨企业办公场地的有味道匿名举报。
外理疗效与收益
出水出水镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,远远超过《化学镀环境破坏物排卸标准的》表三;整个150万立米/天产水使用于公测产线洁净,替代品等量新鲜毛肚水;垃圾(减压蒸馏残液+生活污水)量比传统艺术"沉定+排卸"状态减约70%。对富士康侧,公测楼盘环保健康监管卡点打伤通;