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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

华东某LED概念片生產机构,因生產历程中在使用砷化镓、酸洗铟等III-V族化学物质,废泥里含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等血本属,制定进行处理经营规模1200吨/日。 污废水 组成及由来 MOCVD设施设备洁净电镀废水 :含前三基镉、前三基铟等有机肥料金属材料类化合物 切割机粉磨化工废水 :含奈米级轻金属粉末 镀膜污废水 :含铜、镍等金属制铁离子 净化处理加工制作工艺 程序流程 改革创新用于"空气氧化破络+高价属收集+膜分割"组合公式施工工艺: 预处置模快 :加药系统亚硫酸氢钠溶解设计黑色金属络合物 核心理念整理单位 : 食用DTCR血本属收集剂达成不可溶螯合物 超滤膜控制系统(UF)截流大团伙严重有害物质 超滤到(RO)脱盐率>98% 污水除理模快 :离心法出现脱水后代为危险废物补救核心正确处理 决定性作用 经三、方检测工具: 总砷含碳量:0.05mg/L(国际标准0.5mg/L) 镉纯度:0.01mg/L(国际标准0.1mg/L) 水回收率:75% 启动投入:3.8元/吨水

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